
国家知识产权局信息显示,深圳职业技术大学;湖州镓奥科技有限公司;深圳镓奥科技有限公司申请一项名为“一种采用金刚石热沉的半导体芯片及其制备方法”的专利,公开号CN121925124A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了一种采用金刚石热沉的半导体芯片及其制备方法,包括:功率芯片,为高能量密度、高发热的高功率半导体芯片;导热基板,为常用的热沉基板;金刚石沉积层,为在导热基板上沉积形成的图形化金刚石薄膜;过渡层,设于金刚石沉积层远离导热基板的一侧,用于增强结合力并防止界面反应;图形化金属化层,设于过渡层远离金刚石沉积层的一侧,用于与功率芯片实现焊接或共晶键合。高效的导热路径,直接位于芯片下方的厚金属键合区提供了低热阻的垂直导热通道,而图形化的应力缓冲结构在保证横向导热的同时,避免了金属全覆盖带来的巨大热应力。
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