国家知识产权局信息显示，安徽禾臣新材料有限公司取得一项名为“具有剖沟的CMP抛光垫”的专利，授权公告号CN224825998U，申请日期为2025年9月。 专利摘要显示，本实用新型公开了具有剖沟的CMP抛光垫…...
